清溢光电：使用DUV光刻机生产高规产品会增加掩膜版使用量

2024-04-30 22:11:37

清溢光电4月30日在互动..表示，使用DUV光刻机生产高规产品会增加掩膜版使用量，但不会机械式增加太多，具体增加数量依据客户自身工艺而定。

文章转载自：界面新闻网 非本站原创
点击展开全文
相关推荐
本站文章来自网友的提交收录，版权归原作者所有，